产品展示

产品中心

当前位置: 首页 > 产品中心 > 沉积炉

联系我们Contact Us

湖南精碳自动化设备有限公司

手 机:15386226177

联系人:龚红平

邮 箱:hnpcae@126.com

电 话:0731-22498108       

Q  Q:29293471/3583885347

传 真:0731-28218908        

地 址:湖南省株洲市天元区天易大道959号新马金谷工业园B4栋

网 址:www.hnpcae.cn

气相沉积炉

气相沉积炉

  • 所属分类:沉积炉
  • 浏览次数:
  • 二维码:
  • 发布时间:2022-03-30 15:03:56
  • 产品概述
  • 技术参数

产品概述:

气相沉积炉可用于在特定压力下将金属卤化物、金属有机物、碳氢化合物等反应源加热气化后在目标材料表面反应生成固态沉积物的设备。也用于以碳氢气体(如C3H8等)为碳源的复合材料的化学气相沉积,如C/C复合材料、SiC复合材料等的CVD、CVI处理。

产品特点:

1)在中温或高温下,通过气态的初始化合物之间的气相化学反应而形成固体物质沉积在基体上。

2)可以在常压或者真空条件下(负压“进行沉积、通常真空沉积膜层质量较好)。

3)采用等离子和激光辅助技术可以显著地促进化学反应,使沉积可在较低的温度下进行。

4)涂层的化学成分可以随气相组成的改变而变化,从而获得梯度沉积物或者得到混合镀层。

5)可以控制涂层的密度和涂层纯度。

6)绕镀件好。可在复杂形状的基体上以及颗粒材料上镀膜。适合涂覆各种复杂形状的工件。由于它的绕镀性能好,所以可涂覆带有槽、沟、孔,甚至是盲孔的工件。

7)沉积层通常具有柱状晶体结构,不耐弯曲,但可通过各种技术对化学反应进行气相扰动,以改善其结构。

8)可以通过各种反应形成多种金属、合金、陶瓷和化合物涂层。

产品展示:

气相沉积炉

上一篇:没有了
下一篇:真空沉积炉2022-03-23

近期浏览:

相关产品

相关新闻

Copyright © 版权所有 湖南精碳自动化设备有限公司 湘ICP备2022004561号-1 技术支持: 株洲网站建设
主要从事于真空炉,烧结炉,真空烧结炉, 欢迎来电咨询!

技术支持:

祥云平台
主营区域: 北京 苏州 广州 深圳